特許

J-GLOBAL ID：201103012542026768

非接触型被処理物回転処理装置

発明者： 福井 聡 ,  小川 純 ,  山口 貢 ,  笹原 友栄
出願人/特許権者： 国立大学法人 新潟大学 ,  株式会社エムテーシー
代理人 (3件)： 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-363676
公開番号（公開出願番号）：特開2007-160282
特許番号：特許第4644766号
出願日： 2005年12月16日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 密閉容器内で被処理物を載置して回転する回転ヘッド部と、前記密閉容器の下方に配置された前記回転ヘッド部に対向する非接触式回転動力伝達体と、前記非接触式回転動力伝達体を同心円状に外囲する固定部とからなる非接触型基板回転処理装置であって、 前記回転ヘッド部は、非接触式回転力受動手段と、前記非接触式回転力受動手段を同心円状に外囲するリング状の永久磁石とを備え、 前記固定部は、前記リング状の永久磁石に対向するように同心円状に配設された第二種超電導体からなるピン止め体と、前記ピン止め体を冷却する冷却手段とを備え、 前記冷却手段で前記ピン止め体を臨界温度以下に冷却して前記リング状の永久磁石との間に磁気的ピン止め力を発生させて前記回転ヘッド部を所定の位置に磁気浮上させ、前記非接触式回転動力伝達体によって発生した回転力により前記回転ヘッド部側に対応して回転力を追従発生させて前記回転ヘッド部を回転させるように構成してなる非接触式被処理物回転処理装置。

IPC (7件)：

B05C 11/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  F16C 32/04 ( 200 6.01) ,  F16H 49/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B05C 13/02 ( 200 6.01) ,  H02N 15/00 ( 200 6.01)

FI (8件)：

B05C 11/08 ,  H01L 21/304 648 Z ,  H01L 21/304 651 B ,  F16C 32/04 ZAA Z ,  F16H 49/00 A ,  H01L 21/30 564 C ,  B05C 13/02 ,  H02N 15/00