特許
J-GLOBAL ID：201103012636304974

ルテニウム錯体を触媒とするアルコール化合物の製造方法

発明者：
碇屋 隆雄

碇屋 隆雄 について

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池平 秀行

池平 秀行 について

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村田 邦彦

村田 邦彦 について

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清藤 信夫

清藤 信夫 について

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大岡 浩仁

大岡 浩仁 について

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橋口 昌平

橋口 昌平 について

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大熊 毅

大熊 毅 について

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野依 良治

野依 良治 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について

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住友化学株式会社

住友化学株式会社 について

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JFEスチール株式会社

JFEスチール株式会社 について

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関東化学株式会社

関東化学株式会社 について

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高砂香料工業株式会社

高砂香料工業株式会社 について

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日本曹達株式会社

日本曹達株式会社 について

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武田薬品工業株式会社

武田薬品工業株式会社 について


代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-359654
公開番号（公開出願番号）：特開平11-189600
特許番号：特許第4004123号
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(1) (式中X、Yは、同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基または他のアニオン基を示し、R1,R2,R3は、アルコキシ基、エステル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基から選ばれる置換基を有してもよい炭化水素基であり、R1とR2が一緒になってアルコキシ基、エステル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基から選ばれる置換基を有してもよい炭素鎖環を形成してもよいことを示し、nは1から4の整数であり、R6,R7,R8は、水素原子または、アルコキシ基、エステル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基から選ばれる置換基を有してもよい炭化水素基を示し、mは1から4の整数である。PR1R2R3およびNR6R7R8は、共に光学活性基である。)で表わされるルテニウム錯体と、原料のカルボニル化合物とを溶媒中に添加して溶解させた後、水素あるいは水素を供与する化合物の存在下にカルボニル化合物を還元して光学活性アルコール化合物を製造することを特徴とする光学活性アルコール化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C07F 15/00 ( 200 6.01) ,  B01J 31/24 ( 200 6.01) ,  C07C 29/145 ( 200 6.01) ,  C07C 33/22 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C07F 15/00 A ,  B01J 31/24 Z ,  C07C 29/145 ,  C07C 33/22 ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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