CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：高橋省吾 , 稲葉忠彦 , 村上加奈子 , 中鶴一隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-081499
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273639
特許番号：特許第3823591号
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】導入されたCVD原料を加熱して気化する気化器、この気化器に端部が固着され、上記気化器内に上記CVD原料を噴霧する金属製の噴霧ノズル、この噴霧ノズルの上記固着部直前までを冷却する冷却機構、並びに上記固着部または上記噴霧ノズルもしくは気化器の上記固着部近傍に設けた熱伝導抑制手段を備えたCVD原料用気化装置。

IPC (3件)：