特許

J-GLOBAL ID：201103014191278075

保護膜

発明者： 大竹 尚登 ,  青木 佑一
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  田崎 豪治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342308
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147525
特許番号：特許第4117388号
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】セグメントに分割して形成されるように膜を堆積してなるセグメント形態の保護膜を基材上に形成させる際に、所定の形態のセグメントを得られるように金網を用いて基材をマスキングした後に、膜の堆積を行うことを特徴とする保護膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 16/04 ( 200 6.01) ,  C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  C23C 14/06 ( 200 6.01) ,  C23C 16/27 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 16/04 ,  C23C 14/04 A ,  C23C 14/06 F ,  C23C 16/27

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 厚膜化人工ダイヤモンド被覆層がすぐれた耐剥離性を有する表面被覆超硬合金製切削工具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-146529   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 特開平2-244045
  
• 特開平2-244045