特許

J-GLOBAL ID：201103015148798932

Ni/SiO2触媒およびその製造方法

発明者： 高橋 亮治 ,  佐藤 智司 ,  松谷 勝博 ,  三上 直樹
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-067121
公開番号（公開出願番号）：特開2005-254091
特許番号：特許第4481043号
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マイクロメートル領域の細孔径を有するマクロ細孔と、ナノメートル領域の細孔径を有するメソ細孔との二種類のタイプの細孔を有する二元細孔シリカにNiを担持したNi/SiO2触媒であって、Ni/(Ni+SiO2)の重量比が0.2〜0.6且つNi比表面積が20〜50m2/gであることを特徴とする、マクロ細孔が貫通孔であって3次元網目状に絡み合った構造で存在しているメタンリフォーミング用Ni/SiO2触媒。

IPC (5件)：

B01J 23/755 ( 200 6.01) ,  B01J 35/10 ( 200 6.01) ,  B01J 37/02 ( 200 6.01) ,  B82B 1/00 ( 200 6.01) ,  C01B 3/40 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B01J 23/74 321 M ,  B01J 35/10 301 A ,  B01J 37/02 101 Z ,  B82B 1/00 ,  C01B 3/40

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 活性金属として元素の周期表の第VIII副族の少なくとも1つの金属を有する触媒の存在下でのアントラキノン化合物の水素添加
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-517908   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 排水処理用触媒および該触媒を用いた排水の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-274058   出願人：株式会社日本触媒
• 特開平3-109946
  
• 水素化触媒、その製造方法およびその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-050630   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

審査官引用 (4件)

• 活性金属として元素の周期表の第VIII副族の少なくとも1つの金属を有する触媒の存在下でのアントラキノン化合物の水素添加
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-517908   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 排水処理用触媒および該触媒を用いた排水の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-274058   出願人：株式会社日本触媒
• 特開平3-109946
  
• 水素化触媒、その製造方法およびその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-050630   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Ni/SiO2 prepared by sol-gel process using citric acid

審査官引用 (1件)

• Ni/SiO2 prepared by sol-gel process using citric acid