特許
J-GLOBAL ID:201103015480541902

電解酸化を用いた多硫化物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加茂 裕邦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-051033
公開番号(公開出願番号):特開2000-247612
特許番号:特許第4312869号
出願日: 1999年02月26日
公開日(公表日): 2000年09月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 多孔性アノードを配するアノード室、カソードを配するカソード室、アノード室とカソード室を区画する隔膜を有する電解槽のアノード室に硫化物イオンを含有する溶液を導入し、電解酸化により多硫化物イオンを得る多硫化物の製造方法であって、多孔性アノードが該多孔性アノードと隔膜との間の少なくとも一部に空隙を有するように配され、多孔性アノードの空隙率が30〜99%であり、かつ、多孔性アノードと隔膜との間の空隙が、多孔性アノードの見掛け体積がアノード室の体積に対して60%〜99%となるように形成されたものであることを特徴とする多硫化物の製造方法。
IPC (4件):
C01B 17/34 ( 200 6.01) ,  C25B 3/00 ( 200 6.01) ,  C25B 11/03 ( 200 6.01) ,  D21C 11/04 ( 200 6.01)
FI (4件):
C01B 17/34 ,  C25B 3/00 ,  C25B 11/03 ,  D21C 11/04 C
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る