特許
J-GLOBAL ID：201103016550770269
アクティブマトリクス基板、電気光学装置、およびアクティブマトリクス基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065221
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258803
特許番号：特許第3812209号
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上にトランジスタおよび信号配線が形成されたアクティブマトリクス基板において、
前記基板上における前記トランジスタおよび前記信号配線が形成されていない領域の少なくとも一か所に、前記トランジスタに用いた半導体膜と同層の膜質検査用半導体膜を備え、かつ、該膜質検査用半導体膜の上層に形成された層間絶縁膜と同層の検査領域側層間絶縁膜に設けられた開口部を通して前記膜質検査用半導体膜が露出した膜質検査領域を有してなることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (6件)：
G02F 1/1368 ( 200 6.01)
, G02F 1/1345 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
, G09F 9/30 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
, H01L 29/786 ( 200 6.01)
G02F 1/136
, G02F 1/134
, G02F 1/13 101
, G09F 9/30 338
, H01L 21/66 Z
, H01L 29/78 612 B
, H01L 29/78 624
