特許
J-GLOBAL ID:201103016963932755
流動層乾燥装置および流動層乾燥設備
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
酒井 宏明
, 高村 順
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-086019
公開番号(公開出願番号):特開2011-214807
出願日: 2010年04月02日
公開日(公表日): 2011年10月27日
要約:
【課題】流動層の褐炭を乾燥することにより発生した発生蒸気の温度を、発生蒸気が結露しないような温度とすることにより、結露の発生を抑制可能な流動層乾燥装置および流動層乾燥設備を提供する。【解決手段】内部に形成された乾燥室126に供給される流動化蒸気107により、乾燥室126に供給された褐炭101を流動させることで、乾燥室126に流動層111が形成される乾燥容器120と、乾燥容器120の内部に設けられ、流動層111の褐炭101が乾燥されることにより発生蒸気104が発生する領域であるフリーボード部Fに設けられた過熱部材130と、を備えた。【選択図】図1
請求項(抜粋):
内部に形成された乾燥室に供給される流動化ガスにより、前記乾燥室に供給された被乾燥物を流動させることで、前記乾燥室に流動層が形成される乾燥容器と、
前記乾燥容器の内部に設けられ、前記流動層の前記被乾燥物が乾燥されることにより発生蒸気が発生する領域に設けられた過熱手段と、を備えたことを特徴とする流動層乾燥装置。
IPC (4件):
F26B 3/084
, F26B 21/04
, C10L 9/08
, F23K 1/04
FI (4件):
F26B3/084
, F26B21/04 B
, C10L9/08
, F23K1/04
Fターム (22件):
3L113AA07
, 3L113AB04
, 3L113AC05
, 3L113AC16
, 3L113AC21
, 3L113AC45
, 3L113AC46
, 3L113AC51
, 3L113AC67
, 3L113AC74
, 3L113AC83
, 3L113AC86
, 3L113BA02
, 3L113CA08
, 3L113CA10
, 3L113CB01
, 3L113DA23
, 4H015AA11
, 4H015AB01
, 4H015BA09
, 4H015BB03
, 4H015CB01
引用特許:
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