特許
J-GLOBAL ID：201103017577600434
ニッケル含有スラリー及びその製造方法、並びにリチウムニッケル系酸化物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-313525
公開番号（公開出願番号）：特開2003-119031
特許番号：特許第4061879号
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ニッケル化合物を溶媒中で湿式粉砕処理、混合処理に供してスラリーとするニッケル含有スラリーの製造方法において、湿式粉砕処理後の固形粒子の平均粒径が1μm以下であり、かつ、該ニッケル化合物として、X線回折ピークの003面の半価幅が0.6度以下の酸化ニッケルを用いることを特徴とするニッケル含有スラリーの製造方法。
IPC (5件)：
C01G 53/04 ( 200 6.01)
, C01G 53/00 ( 200 6.01)
, H01M 4/02 ( 200 6.01)
, H01M 4/58 ( 200 6.01)
, H01M 10/40 ( 200 6.01)
C01G 53/04
, C01G 53/00 A
, H01M 4/02 101
, H01M 4/58
, H01M 10/40 Z
