薄膜磁気ヘッド用基板、薄膜磁気ヘッド、および薄膜磁気ヘッド用基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-320642
公開番号（公開出願番号）：特開2000-207715
特許番号：特許第4206585号
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】FeAlSi合金膜と、前記FeAlSi合金膜を支持するセラミックス基板とを備えた薄膜磁気ヘッド用基板であって、前記FeAlSi合金膜と前記セラミックス基板との間に配置された中間積層膜を備え、前記中間積層膜が前記セラミックス基板に近い側から順番にCr膜およびFe膜を含んでいる薄膜磁気ヘッド用基板。

IPC (2件)：