特許
J-GLOBAL ID:201103018014055959

プロセスカートリッジ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小川 啓輔 ,  稲垣 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-094471
公開番号(公開出願番号):特開2011-141577
出願日: 2011年04月20日
公開日(公表日): 2011年07月21日
要約:
【課題】帯電部に異物が付着するのを抑制することで、帯電性能を維持することを目的とする。【解決手段】プロセスカートリッジ50Aは、帯電部(帯電ワイヤ54)を挟んで感光体(感光ドラム53)とは反対側に第1開口(帯電開口部52C)が形成されたフレーム(ドラムフレーム52)を有する。前記フレームには、前記第1開口よりも前記感光体の回転方向の上流側で、かつ、前記感光体における転写位置Cよりも回転方向の下流側の位置に、当該フレーム内外の通気のための第1通気孔52Eが形成され、前記フレームと壁(プロセスカートリッジ50B)との間には、気流を規制するための規制部材(フィルムF)が、前記第1開口と第1通気孔52Eとの間に位置するように設けられている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
回転しながら静電潜像が形成される感光体と、前記感光体に対して非接触となるように配置され、前記感光体を帯電させる帯電部と、前記帯電部を挟んで前記感光体とは反対側に第1開口が形成されたフレームとを有し、 画像形成装置の装置本体に取り付けられた状態において、隣接する他のプロセスカートリッジに前記第1開口が対向するプロセスカートリッジであって、 前記フレームには、 前記第1開口よりも前記感光体の回転方向の上流側で、かつ、前記感光体における転写位置よりも前記回転方向の下流側の位置に、当該フレーム内外の通気のための第1通気孔が形成されるとともに、前記他のプロセスカートリッジと前記フレームとの間の気流を規制するための規制部材が、前記第1開口と前記第1通気孔との間に位置するように設けられ、 前記規制部材は、前記プロセスカートリッジの着脱方向に直交した面を有するフィルムであり、前記着脱方向に撓んだ状態で前記他方のプロセスカートリッジに当接するように構成されていることを特徴とするプロセスカートリッジ。
IPC (1件):
G03G 15/00
FI (1件):
G03G15/00 550
Fターム (41件):
2H171FA02 ,  2H171FA11 ,  2H171FA26 ,  2H171FA28 ,  2H171GA24 ,  2H171JA06 ,  2H171JA23 ,  2H171JA27 ,  2H171JA29 ,  2H171JA31 ,  2H171JA43 ,  2H171JA46 ,  2H171JA58 ,  2H171KA05 ,  2H171KA06 ,  2H171KA18 ,  2H171NA04 ,  2H171NA05 ,  2H171QA04 ,  2H171QA06 ,  2H171QA08 ,  2H171QB02 ,  2H171QB16 ,  2H171QB17 ,  2H171QB32 ,  2H171QB41 ,  2H171QC05 ,  2H171QC23 ,  2H171QC36 ,  2H171SA10 ,  2H171SA12 ,  2H171SA18 ,  2H171SA19 ,  2H171SA22 ,  2H171SA26 ,  2H171UA03 ,  2H171UA08 ,  2H171UA12 ,  2H171WA02 ,  2H171WA05 ,  2H171WA10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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