特許
J-GLOBAL ID:201103019408209389

エキシマ照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-138490
公開番号(公開出願番号):特開2000-331649
特許番号:特許第3282804号
出願日: 1999年05月19日
公開日(公表日): 2000年11月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプに1〜20MHzの範囲内で該エキシマランプの静電容量と共振点が一致する周波数条件からなる高周波電圧を印加する電源部と、からなるエキシマ照射装置であって、前記エキシマ照射部は、前記エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面と、当該照射面の反対面に設けられて前記エキシマ光を反射する反射面とを有し、前記エキシマランプは、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される内部電極とを有し、前記反射面には、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ、前記内部管には、冷却用ガスの導入口が設けられていることを特徴とするエキシマ照射装置。
IPC (2件):
H01J 65/00 ,  B01J 19/12
FI (2件):
H01J 65/00 A ,  B01J 19/12 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-301357
  • 特開平3-174243
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-269491   出願人:大日本スクリーン製造株式会社

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