特許

J-GLOBAL ID：201103020606822000

処理チャンバ内で物体を焼き戻しするための装置および方法

発明者： パルム,イエルク ,  バウムバハ,イエルク ,  カルク,フランツ ,  フユーアフアンガー,マルテイン
出願人/特許権者： サン-ゴバン グラス フランス エス アー
代理人 (1件)： 特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-507838
公開番号（公開出願番号）：特表2011-520273
出願日： 2009年05月08日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：

本発明は、物体(2、15)を焼き戻しするための装置(1)および方法に関する。本発明によれば、一時的プロセスボックス(11)は以前から知られている焼き戻しプロセスの欠点を克服し、特に高い再現性および焼き戻しプロセス中の高い処理量を、低投資コストを同時に伴って達成するために使用され、それにより、焼き戻しプロセスが、全体的に非常にコスト効率良く実施される。

請求項（抜粋）：

チャンバ空間(17)を備えた処理チャンバ(3)と、少なくとも1つのエネルギー源(10)と、物体(2、15)が少なくとも部分的に中に配設され得る処理空間(16)を画定する処理フード(11)であって、物体(2、15)の少なくとも一部が中で焼き戻しされる処理空間(16)の容積を、チャンバ空間(17)の容積と比べて低減する処理フード(11)とを備えた、少なくとも1つの物体、特に少なくとも2つの層(2、15)を備えた多層本体の焼き戻しのための装置(1)であって、処理フード(11)が、少なくとも処理チャンバ(3)内に固定して配設されたカバー(12)として設計されることを特徴とする、装置(1)。

IPC (1件)：

H01L 31/04

FI (1件)：

H01L31/04 E

Fターム (5件)：

5F151AA10 ,  5F151CB12 ,  5F151CB24 ,  5F151CB30 ,  5F151GA03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薄膜太陽電池の製造方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-036989   出願人：富士電機株式会社
• 多層構造体を温度処理するための装置および方法、並びにその種の多層構造体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-514489   出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト