特許
J-GLOBAL ID：201103021125620559
パターン形成体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281521
公開番号（公開出願番号）：特開2001-109103
特許番号：特許第3881138号
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材と、この基材の少なくとも一方の表面に形成され、少なくともフッ素含有化合物および光触媒を含む光触媒含有層とからなる複合材であって、前記光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素原子含有量がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触媒含有層が形成されている複合材の光触媒含有層にエネルギーを照射してパターン形成体を製造するパターン形成体の製造方法において、
前記光触媒含有層に照射するエネルギーが、光触媒反応開始エネルギーおよび反応速度増加エネルギーであり、前記光触媒反応開始エネルギーを照射した部分に前記反応速度増加エネルギーを照射することにより、露光部分を形成することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/075 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 7/004 521
, G03F 7/00 503
, G03F 7/075 511
, G03F 7/20 501
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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