特許
J-GLOBAL ID:201103021965401858
露光方法及び露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-182107
公開番号(公開出願番号):特開2000-156344
特許番号:特許第3535770号
出願日: 1999年06月28日
公開日(公表日): 2000年06月06日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ウエハのショット領域に対して途中で現像を行なうことなく互いに強度分布が異なる複数の像で露光を行なう露光方法であって、複数のウエハの各々の複数のショット領域に対してある強度分布を有する像によって露光を行なった後で、前記複数のウエハの各々の前記複数のショット領域に対して他の強度分布を有する像によって露光を行なうとき、前記複数のウエハは、該ウエハの位置を計測するウエハ位置確認用計測系が設けられたストックキャリアに収納されており、該ウエハの1回目の露光のときの位置合わせをウエハ上のアライメントマークで行ない、2回目の露光のときの位置合わせをウエハチャック上の位置合わせ情報を用いて行なっていることを特徴とする露光方法。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (4件):
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 A
, H01L 21/30 502 C
, H01L 21/30 515 B
引用特許:
出願人引用 (3件)
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フォトレジストパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-016763
出願人:株式会社リコー
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特開昭61-263123
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-124190
出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (3件)
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フォトレジストパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-016763
出願人:株式会社リコー
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特開昭61-263123
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-124190
出願人:キヤノン株式会社
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