特許
J-GLOBAL ID:201103021995109175
洗浄剤
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-175226
公開番号(公開出願番号):特開2001-003034
特許番号:特許第4222688号
出願日: 1999年06月22日
公開日(公表日): 2001年01月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 トリジマイトの結晶相からなり、又はトリジマイトとクリストバライトの結晶相からなり、トリジマイトの結晶相の比率が35〜100重量%である結晶からなる研磨材を1〜90重量%含有する、透明又は半透明の洗浄剤。
IPC (5件):
C11D 3/14 ( 200 6.01)
, C09K 3/14 ( 200 6.01)
, C01B 33/12 ( 200 6.01)
, A61K 8/25 ( 200 6.01)
, A61Q 11/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
C11D 3/14
, C09K 3/14 550 D
, C01B 33/12 B
, A61K 8/25
, A61Q 11/00
引用特許:
出願人引用 (7件)
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特開昭59-093798
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微細な結晶質シリカの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-035047
出願人:富士化学株式会社
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電子写真感光体用リファイナー及びリファイニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-041798
出願人:コニカ株式会社
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半導体基板のための研磨剤
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-504211
出願人:インフィネオンテクノロジースアクチエンゲゼルシャフト
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シリカ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-289432
出願人:ジョセフ・クロスフィールド・アンド・サンズ・リミテッド
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特開昭60-105609
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特開昭53-046499
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審査官引用 (4件)