特許
J-GLOBAL ID：201103022207492962

液体内にガスを断続的に供給するガス供給装置

発明者：
ヴィルフリート オット

ヴィルフリート オット について

, 
ハンス-クリスティアン フォン コンスブルフ

ハンス-クリスティアン フォン コンスブルフ について


出願人/特許権者：
フリーデリケ オット

フリーデリケ オット について


代理人 (6件)： 矢野 敏雄 ,  久野 琢也 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-149277
公開番号（公開出願番号）：特開2011-218342
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：
【課題】ガス供給装置のダイアフラムを断続的な運転にもかかわらず効果的に亀裂傾向及び弱化から解放し、ガス供給装置の運転期間を明らかに延ばすことができる、ガス供給装置を提供する。【解決手段】溝(14)は角張ったエッジを有していない凹面状の窪みとして形成され、導入体(12)の表面(26)に、導入体の外周を円形状とは異ならせかつ円形状とは異なる導入体の展開した周長さがダイアフラム(16)の内周と同じ大きさであるように導入体の外周を拡大する手段(28,30)が設けられており、ガス供給が遮断されている場合にダイアフラムの全内周は導入体に完全に接触することができるようにした。また、導入体の表面に、導入体の外周を円形状とは異ならせ、導入体の外周が溝を有していないとした場合にダイアフラムの内周と同じ大きさであるように、導入体の外周を拡大する手段(32)が設けられているようにした。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ガスを断続的に液体内に供給するためのガス供給装置(10)であって、導入しようとするガスの長手方向分配のために軸線方向に延びている下側の溝(14)を有する少なくとも1つの管状の導入体(12)を備え、液体内にガスを導入するためにパーフォレーションスリット(22)を備えた穿孔された領域(18,20)と、穿孔されていない少なくとも1つの領域(24)とを有する、弾性的な材料から成るダイアフラム(16)を備えている、ガスを断続的に液体内に供給するためのガス供給装置において、 溝(14)は角張ったエッジを有していない凹面状の窪みとして形成されており、導入体(12)の表面(26)に、導入体(12)の外周を円形状とは異ならせ、かつ、円形状とは異なる導入体(12)の展開した周長さがダイアフラム(16)の内周と同じ大きさであるように導入体(12)の外周を拡大する手段(28,30)が設けられており、ガス供給が遮断されている場合にダイアフラム(16)の全内周は導入体(12)に完全に接触することができることを特徴とする、ガスを断続的に液体内に供給するためのガス供給装置。
IPC (1件)：
C02F 3/20
FI (1件)：
C02F3/20 D
Fターム (3件)：
4D029AA01 ,  4D029AB07 ,  4D029BB10
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (11件)
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