特許
J-GLOBAL ID:201103022971838202

塗布装置および塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 田中 秀佳 ,  城村 邦彦 ,  熊野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-271452
公開番号(公開出願番号):特開2011-119294
出願日: 2009年11月30日
公開日(公表日): 2011年06月16日
要約:
【課題】生産性の向上を図ることができ、しかも、装置全体としても大型化せず、低コスト化を達成できる塗布装置および塗布方法を提供する。【解決手段】塗布装置は、ペースト状の塗布剤Pを被塗布部20に塗布するための一対の転写ピン21,22を備える。状態変位手段25にて、第1状態と第2状態とに交互に変位させる。第1状態は、第1の転写ピン21がペースト状の塗布剤Pが溜められる塗布剤溜り部の上方に対応するとともに第2の転写ピン22が被塗布部20の上方に対応する。第2状態は、第2の転写ピン22がペースト状の塗布剤Pが溜められる塗布剤溜り部の上方に対応するとともに第1の転写ピン21が被塗布部20の上方に対応する。Z軸方向移動手段にて、第1状態及び第2状態において各転写ピン21、22を上下方向であるZ軸方向に移動させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ペースト状の塗布剤を被塗布部に塗布するための一対の転写ピンを備えた塗布装置であって、 第1の転写ピンがペースト状の塗布剤が溜められる塗布剤溜り部の上方に対応するとともに第2の転写ピンが被塗布部の上方に対応する第1状態と、第2の転写ピンがペースト状の塗布剤が溜められる塗布剤溜り部の上方に対応するとともに第1の転写ピンが被塗布部の上方に対応する第2状態とに交互に変位させる状態変位手段と、第1状態及び第2状態において各転写ピンを上下方向であるZ軸方向に移動させるZ軸方向移動手段とを備えたことを特徴とする塗布装置。
IPC (3件):
H01L 21/52 ,  B05D 1/28 ,  B05C 11/10
FI (3件):
H01L21/52 F ,  B05D1/28 ,  B05C11/10
Fターム (23件):
4D075AC42 ,  4D075CA05 ,  4D075CA14 ,  4D075CA35 ,  4D075DA03 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DC21 ,  4D075EA14 ,  4D075EB33 ,  4D075EB39 ,  4F042AB00 ,  4F042CB18 ,  4F042ED06 ,  5F047AA11 ,  5F047BA34 ,  5F047BA37 ,  5F047BA53 ,  5F047BB11 ,  5F047BB16 ,  5F047FA21 ,  5F047FA25 ,  5F047FA77
引用特許:
審査官引用 (4件)
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