塗布装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：田中秀佳 , 城村邦彦 , 熊野剛 , 大中礼子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-271462
公開番号（公開出願番号）：特開2011-110524
出願日： 2009年11月30日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：

【課題】生産性の向上を図ることができ、しかも、使用する塗布剤や被塗布部への塗布剤の量に応じて高精度に塗布剤を塗布することができる塗布装置を提供する。【解決手段】ペースト状の塗布剤Pが溜められる塗布剤溜り部の塗布剤に下端を浸漬状乃至接触状として塗布剤Pを受け取りこの受け取った塗布剤Pを被塗布部20に転写する一対の転写ピンを備えた塗布装置である。一方の転写ピン21にて塗布剤Pを受け取ると同時に他方の転写ピン22から被塗布部20に塗布剤Pを転写するとともに、塗布剤Pを受け取るとき及び塗布剤Pを転写するときには転写ピン21,22が上下方向に沿って下降する。塗布剤Pが溜められる塗布剤溜り部を構成するペースト皿53と、このペースト皿53の上下方向高さ位置の調整を行う位置調整機構55とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ペースト状の塗布剤が溜められる塗布剤溜り部の塗布剤に下端を浸漬状乃至接触状として塗布剤を受け取りこの受け取った塗布剤を被塗布部に転写する一対の転写ピンを備え、一方の転写ピンにて塗布剤を受け取ると同時に他方の転写ピンから被塗布部に塗布剤を転写するとともに、他方の転写ピンにて塗布剤を受け取ると同時に一方の転写ピンから被塗布部に塗布剤を転写し、塗布剤を受け取るとき及び塗布剤を転写するときには転写ピンが上下方向に沿って下降する塗布装置であって、塗布剤が溜められる塗布剤溜り部を構成するペースト皿と、このペースト皿の上下方向高さ位置の調整を行う位置調整機構とを備えたことを特徴とする塗布装置。

IPC (2件)：

B05C 1/02 , H01L 21/52

FI (2件)：

B05C1/02 101 , H01L21/52 G

Fターム (12件)：

4F040AA02 , 4F040AA12 , 4F040AB04 , 4F040AC01 , 4F040BA02 , 4F040BA08 , 4F040DB30 , 5F047FA00 , 5F047FA21 , 5F047FA22 , 5F047FA25 , 5F047FA26

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-145894
ボンディングペーストの転写装置および転写ピンならびにボンディングペーストの転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-391944 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭62-145894

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