特許
J-GLOBAL ID：201103023009157500

オキシラン化合物の製造方法

発明者：
山本 純

山本 純 について

, 
辻 純平

辻 純平 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  赤澤 太朗 ,  小堀 貞文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260051
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119266
特許番号：特許第4355404号
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ヒドロキシル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい、炭素原子数3-40個のアルケンであるオレフィン型化合物とエチルベンゼンハイドロパーオキサイドを反応させるオキシラン化合物の製造方法であって、下記(1)〜(5)の全ての条件を充足するチタン含有珪素酸化物からなる触媒の存在下に反応を行うオキシラン化合物の製造方法。 (1):平均細孔径が10Å以上であること (2):全細孔容量の90%以上が5〜200Åの細孔径を有すること (3):比細孔容量が0.2cm3/g以上であること (4):下記の一般式(I)で表される第4級アンモニウムイオンを型剤(テンプレート)として用い、その後該型剤を焼成操作により除去して得られるものであること [NR1R2R3R4]+ (I) (式中、R1は炭素数2〜36の直鎖状又は分岐状の炭化水素基を表し、R2〜R4は炭素数1〜6のアルキル基を表す。) (5): X線回折において、面間隔dを示すピークが存在しないこと
IPC (4件)：
C07D 301/19 ( 200 6.01) ,  C07D 303/04 ( 200 6.01) ,  B01J 21/08 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C07D 301/19 ,  C07D 303/04 ,  B01J 21/08 X ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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