特許
J-GLOBAL ID:201103023470999857

結晶シリコン製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-341218
公開番号(公開出願番号):特開2003-137526
特許番号:特許第3885558号
出願日: 2001年11月06日
公開日(公表日): 2003年05月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 鋳型に収容したシリコン融液に該鋳型の内側底面から上方に正の温度勾配を付与して、前記鋳型の内側底面から上方に前記シリコン融液を結晶化する結晶シリコン製造装置において、 前記鋳型内から発生する気体を搬送する搬送気流を前記鋳型の外方で発生させる気流発生装置を有し、 前記鋳型が複数設けられ、 該鋳型間には前記鋳型の上端よりも高さの低い樋状通路が形成され、 前記気流発生装置は、前記樋状通路内で前記搬送気流を発生させることを特徴とする結晶シリコン製造装置。
IPC (2件):
C01B 33/02 ( 200 6.01) ,  H01L 31/04 ( 200 6.01)
FI (2件):
C01B 33/02 E ,  H01L 31/04 X
引用特許:
審査官引用 (2件)

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