特許

J-GLOBAL ID：201103023832910647

フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、及びフォトレジストパターンの形成方法

発明者： 鄭 載昌 ,  金 明洙 ,  金 亨基 ,  盧 致亨 ,  李 根守 ,  鄭 ▲みん▼鎬 ,  卜 ▲ちょる▼圭 ,  白 基鎬
出願人/特許権者： 株式会社ハイニックスセミコンダクター
代理人 (2件)： 荒船 博司 ,  荒船 良男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-125381
公開番号（公開出願番号）：特開平11-349637
特許番号：特許第4028131号
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記式(1)で示されるフォトレジスト重合体。 前記式で、 R1は側鎖又は主鎖に置換された炭素数1〜10のアルキル、又はベンジル基を示し、 R2は炭素数1〜10の1級、2級或いは3級アルコールを示し、 m及びnはそれぞれ1〜3の数を示し、 X、Y及びZは各単量体の重合比を示し、 X:Y:Zの比は10〜80:10〜80:10〜80モル%である。

IPC (6件)：

C08F 222/40 ( 200 6.01) ,  C08F 232/08 ( 200 6.01) ,  G03F 7/38 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C08F 222/40 ,  C08F 232/08 ,  G03F 7/38 512 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-191020   出願人：東京応化工業株式会社
• マレイミド系単量体とその製造方法、脂肪族環状オレフィン系単量体とその製造方法、共重合体樹脂とその製造方法、フォトレジストとその製造方法、および半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-293899   出願人：現代電子産業株式会社