マレイミド系単量体とその製造方法、脂肪族環状オレフィン系単量体とその製造方法、共重合体樹脂とその製造方法、フォトレジストとその製造方法、および半導体素子

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293899
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228536
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 2.38%TMAH現像液に耐える物性を有し、しかも、高い接着性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】一般式(1)のマレイミド系単量体の少なくとも一つから得られる、共重合体樹脂を含有するフォトレジストである。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級あるいは3級アルコール基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオール基を示す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるマレイミド系単量体。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級、または3級アルコール、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオールを示す。

IPC (10件)：

C07D207/448 , C07C 51/347 , C07C 61/29 , C07C 69/753 , C07D207/452 , C08F222/06 , C08F222/40 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F 7/039 601

FI (10件)：

C07D207/448 , C07C 51/347 , C07C 61/29 , C07C 69/753 C , C07D207/452 , C08F222/06 , C08F222/40 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F 7/039 601

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-268156
ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-099967 出願人：富士通株式会社
光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-348644 出願人：日本油脂株式会社

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審査官引用 (7件)

特開平2-268156
特開平2-268156
特開平2-268156

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引用文献：

出願人引用 (2件)

1.3.2エステルの加水分解
Velocity of reaction in mixed solvents. VII. The influence of the base on the velocity of saponifica

審査官引用 (6件)

1.3.2エステルの加水分解
1.3.2エステルの加水分解
1.3.2エステルの加水分解

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