特許

J-GLOBAL ID：200903057554646724

マレイミド系単量体とその製造方法、脂肪族環状オレフィン系単量体とその製造方法、共重合体樹脂とその製造方法、フォトレジストとその製造方法、および半導体素子

発明者： 鄭 載昌 ,  孔 根圭 ,  卜 ▲ちょる▼圭 ,  白 基鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293899
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228536
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 2.38%TMAH現像液に耐える物性を有し、しかも、高い接着性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】 一般式(1)のマレイミド系単量体の少なくとも一つから得られる、共重合体樹脂を含有するフォトレジストである。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級あるいは3級アルコール基や、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオール基を示す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるマレイミド系単量体。【化1】前記式中、Rは炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたアルキル基、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換された1級、2級、または3級アルコール、炭素数1〜10の主鎖あるいは側鎖が置換されたジオールを示す。

IPC (10件)：

C07D207/448 ,  C07C 51/347 ,  C07C 61/29 ,  C07C 69/753 ,  C07D207/452 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

FI (10件)：

C07D207/448 ,  C07C 51/347 ,  C07C 61/29 ,  C07C 69/753 C ,  C07D207/452 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-268156
  
• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-099967   出願人：富士通株式会社
• 光重合性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-348644   出願人：日本油脂株式会社
• ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、これらの製造方法及びフォトレジスト物質
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-317892   出願人：現代電子産業株式会社, 韓国科学技術院
• 特にフォトレジストのためのマレイミドコポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-335601   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーマイクロエレクトロニックマテリアルズアクチエンゲゼルシヤフト

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 1.3.2エステルの加水分解
• Velocity of reaction in mixed solvents. VII. The influence of the base on the velocity of saponifica