特許
J-GLOBAL ID:201103023856314972

循環流動層ボイラシステム及びその操業方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中井 潤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-006897
公開番号(公開出願番号):特開2001-201008
特許番号:特許第4215921号
出願日: 2000年01月14日
公開日(公表日): 2001年07月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 燃料として硫黄分1%乃至10%の燃料を、循環媒体として脱硫作用の無い粒子を用いる循環流動層ボイラと、 該循環流動層ボイラの排出ガス煙道に設置された湿式脱硫装置とを備え、 前記循環流動層ボイラから排出される灰分をセメント原料として活用し、前記湿式脱硫装置で回収した石こうをセメントの凝結調整剤としてセメント粉砕工程で活用することを特徴とする循環流動層ボイラシステム。
IPC (5件):
F23C 10/18 ( 200 6.01) ,  F23C 10/01 ( 200 6.01) ,  C04B 7/28 ( 200 6.01) ,  F23J 1/00 ( 200 6.01) ,  F23J 15/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
F23C 10/18 ,  F23C 10/01 ,  C04B 7/28 ZAB ,  F23J 1/00 A ,  F23J 15/00 ZAB B
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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