特許

J-GLOBAL ID：201103023965543744

ガラス基板の食刻装置

発明者： ジェエ ギュ チョン
出願人/特許権者： エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254246
公開番号（公開出願番号）：特開2000-128578
特許番号：特許第4363712号
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】食刻液供給管と食刻液排出管とを有する容器と、 前記容器の内部に設けられ、基板と食刻液の発熱反応から生じる温度変化を測定する温度測定装置と、 前記容器内に設けられ、複数の孔を有する多孔板と、 前記多孔板の下に設けられて前記多孔板へ気泡を提供するバブル板と、 前記食刻液排出管と連結され、食刻液を浄化するフィルターと、 前記フィルターと連結され、前記容器から排出された食刻液を貯蔵するバッファータンクと、 前記バッファータンクと連結され、該バッファータンクから提供された食刻液と新しい食刻液化合物とを混合する化合物混合タンクと、 前記化合物混合タンク内に設けられ、混合液の濃度を測定する濃度測定装置と、 前記化合物混合タンクと前記食刻液排出管と連結され、前記混合物混合タンク内の食刻液を、前記食刻液供給管を通じて前記容器内へ供給するように圧力を提供するポンプと、を含んで構成されたガラス基板の食刻装置。

IPC (3件)：

C03C 15/00 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1333 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C03C 15/00 C ,  G02F 1/133 500 ,  H01L 21/306 J

引用特許：

出願人引用 (2件)

• エッチング処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-202017   出願人：鶴見曹達株式会社
• エッチング液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-326298   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社

審査官引用 (2件)

• エッチング処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-202017   出願人：鶴見曹達株式会社
• エッチング液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-326298   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社