特許
J-GLOBAL ID:201103024275530921

光電変換装置の製造方法及び光電変換装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 藤田 考晴 ,  上田 邦生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-211519
公開番号(公開出願番号):特開2011-061124
出願日: 2009年09月14日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】良好な耐プラズマ還元性を有するとともに、透明導電膜/光電変換層界面での反射損失を抑制することができる光電変換装置の製造方法、及び、電池特性が改善された光電変換装置を提供する。【解決手段】基板1上に、順に透明電極層2と、酸化チタンを主に含む酸化チタン層51と、酸化亜鉛を主に含む酸化亜鉛層52と、光電変換層3とを形成する光電変換装置100の製造方法であって、入射光のスペクトルと光電変換層3の量子効率との積である重み関数を算出し、所定の膜厚の酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52を透過する光のスペクトルと、算出された重み関数とから、所定の膜厚の酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52を透過する光の平均透過率を算出し、算出された平均透過率と、酸化チタン層51の還元防止効果を考慮した酸化亜鉛層52の膜厚範囲に基づいて、形成する酸化チタン層51及び酸化亜鉛層52の膜厚を決定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板上に、順に透明電極層と、酸化チタンを主に含む酸化チタン層と、酸化亜鉛を主に含む酸化亜鉛層と、光電変換層とを形成する光電変換装置の製造方法であって、 入射光のスペクトルと前記光電変換層の量子効率との積である重み関数を算出し、 所定の膜厚の前記酸化チタン層及び前記酸化亜鉛層を透過する光のスペクトルと、前記算出された重み関数とから、前記所定の膜厚の前記酸化チタン層及び前記酸化亜鉛層を透過する光の平均透過率を算出し、 前記算出された平均透過率と、前記酸化チタン層の還元防止効果を考慮した前記酸化亜鉛層の膜厚範囲に基づいて、形成する前記酸化チタン層及び前記酸化亜鉛層の膜厚を決定する光電変換装置の製造方法。
IPC (1件):
H01L 31/04
FI (1件):
H01L31/04 F
Fターム (54件):
5F051AA04 ,  5F051AA05 ,  5F051AA16 ,  5F051CA02 ,  5F051CA03 ,  5F051CA04 ,  5F051CA07 ,  5F051CA08 ,  5F051CA15 ,  5F051CB15 ,  5F051DA04 ,  5F051DA17 ,  5F051DA18 ,  5F051EA09 ,  5F051EA10 ,  5F051EA11 ,  5F051EA16 ,  5F051FA03 ,  5F051FA06 ,  5F051FA13 ,  5F051FA15 ,  5F051FA18 ,  5F051GA03 ,  5F051HA03 ,  5F051HA06 ,  5F051JA03 ,  5F051JA04 ,  5F151AA04 ,  5F151AA05 ,  5F151AA16 ,  5F151CA02 ,  5F151CA03 ,  5F151CA04 ,  5F151CA07 ,  5F151CA08 ,  5F151CA15 ,  5F151CB15 ,  5F151DA04 ,  5F151DA17 ,  5F151DA18 ,  5F151EA09 ,  5F151EA10 ,  5F151EA11 ,  5F151EA16 ,  5F151FA03 ,  5F151FA06 ,  5F151FA13 ,  5F151FA15 ,  5F151FA18 ,  5F151GA03 ,  5F151HA03 ,  5F151HA06 ,  5F151JA03 ,  5F151JA04
引用特許:
審査官引用 (1件)

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