製造ラインの自動品質制御方法及びその装置並びに記憶媒体、自動品質制御プログラム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：村松貞男 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠 , 河井将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338214
公開番号（公開出願番号）：特開2002-149221
特許番号：特許第4693225号
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】製造ラインの稼動中に当該製造ラインおける製造条件データ及び製品の出来映えデータをモニタリングして製造履歴データベースに蓄積し、当該製造履歴データベースへの前記製造条件データ及び前記製品の出来映えデータの蓄積では、帳票などの場合は電子ファイル化して前記製造履歴データベースに蓄積し、センサ信号の場合はモニタリングして前記製造履歴データベースに蓄積し、画像の場合はパターン認識して前記製造履歴データベースに蓄積し、感覚量などの場合は特定アルゴリズムによる数値化の手法によりデジタルデータ化して前記製造履歴データベースに蓄積し、かつ前記出来映えデータは、前記製品に不良があれば当該不良の阻害要因に不良コードを対応させて記憶し、前記出来映えデータを監視して前記製造ラインでの前記不良コードから分る阻害事象である品質阻害事象を検出すると、前記製造条件データも加味して品質阻害要因を抽出し、この抽出結果と予め記憶された少なくとも前記不良コード、品質阻害要因、この品質阻害要因に対する改善内容、改善結果から成る品質改善履歴データとを照合して前記品質阻害要因、改善内容の妥当性を確認し、前記妥当性があった場合には前記品質阻害要因を改善するように前記製造ラインの製造条件を変更して前記製造ラインにフィードバックし、前記妥当性が前記品質改善履歴データと照合できなかった場合、その警告及び前記品質阻害要因候補を提示してその品質阻害要因を改善するために前記製造条件を変更するか否かを仰ぐ、ことを特徴とする製造ラインの自動品質制御方法。

IPC (3件)：

G05B 19/418 ( 200 6.01) , G06Q 50/00 ( 200 6.01) , H01L 21/02 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G05B 19/418 Z , G06F 17/60 108 , H01L 21/02 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

半導体基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-198219 出願人：株式会社日立製作所
特開昭63-249328
特開昭63-249328

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