特許
J-GLOBAL ID:201103025312825240

エステル化有機金属化合物、その製造方法及びエステル誘導体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小林 浩 ,  片山 英二 ,  小林 純子 ,  黒田 薫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-060706
公開番号(公開出願番号):特開2001-247587
特許番号:特許第4422849号
出願日: 2000年03月06日
公開日(公表日): 2001年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】下記式(I)で示されるエステル化有機金属化合物。 (式中、R1及びR2は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;アミノ基;水酸基;式-Si(R4)(R5)(R6)で示される基(式中、R4、R5及びR6は、それぞれ、互いに独立し、同一又は異なって、C1〜C20アルキル基、C6〜C20アリールアルキル基、C1〜C20アルコキシ基、C6〜C20アリールアルキルオキシ基である。);ホルミル基;イソシアノ基;イソシアナト基;チオシアナト基;又は、イソチオシアナト基であり、ただし、R1及びR2は互いに、架橋して、C4〜C20飽和又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原子又は式-N(R7)-で示される基(式中、R7は水素原子又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよく、R3は、水素原子又はC1〜C20炭化水素基であり、Mは、周期表の第3族〜第5族又はランタニド系列の金属を示し、L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋されていてもよく、Y1は脱離基であり、 前記C1〜C20炭化水素基、前記C1〜C20アルコキシ基又は前記C6〜C20アリールオキシ基が置換基を有している場合、前記置換基は、ハロゲン原子、水酸基及びアミノ基からなる群から選択され、 前記R1及びR2が互いに架橋して形成される環が置換基を有している場合、前記置換基は、C1〜C20炭化水素基、C1〜C20アルコキシ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミノ基、水酸基及び式-Si(R4)(R5)(R6)で示される基(式中、R4、R5及びR6は、上記の意味を有する。)からなる群から選択される。)
IPC (9件):
C07F 17/00 ( 200 6.01) ,  C07C 67/30 ( 200 6.01) ,  C07C 67/307 ( 200 6.01) ,  C07C 69/533 ( 200 6.01) ,  C07C 69/618 ( 200 6.01) ,  C07C 69/65 ( 200 6.01) ,  C07F 7/08 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01) ,  C07F 7/00 ( 200 6.01)
FI (9件):
C07F 17/00 ,  C07C 67/30 ,  C07C 67/307 ,  C07C 69/533 ,  C07C 69/618 ,  C07C 69/65 ,  C07F 7/08 J ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 7/00 A
引用文献:
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