基板表面の洗浄方法と装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松田大
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091570
公開番号（公開出願番号）：特開2000-279904
特許番号：特許第3695684号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】汚染基板の基板表面を洗浄する方法において、該汚染基板を、洗浄するための収納空間に収納し、該収納空間中の少なくとも炭化水素を含む気体を、空間容積1m3当り50〜50000cm2の表面積で設置された光触媒に、0.01mW/cm2〜10mW/cm2の紫外線が照射されている空間内で、該気体中の非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に清浄化し、該気体を汚染基板の表面に接触させることにより、該基板上の汚染物を気体中に脱離させることを特徴とする基板表面の洗浄方法。

IPC (4件)：