特許
J-GLOBAL ID:201103025912640660
水溶性高分子皮膜形成剤並びに水溶性高分子皮膜形成剤の製造方法並びにタブリード並びにタブリードの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉井 剛
, 吉井 雅栄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-073109
公開番号(公開出願番号):特開2011-202121
出願日: 2010年03月26日
公開日(公表日): 2011年10月13日
要約:
【課題】タブリードの耐電解液性、耐腐食性、耐湿性を確保し得る皮膜を形成し、この皮膜の厚さを容易に制御することで導電性を良好にし、更に、環境にやさしく、安全性に優れた水溶性高分子皮膜形成剤を提供することを目的とする。【解決手段】カルボキシル基若しくはスルホ基を含有親水基とするアニオン変性ポリビニルアルコールと、ブタンテトラカルボン酸,アミノカルボン酸若しくはアミノカルボン酸誘導体のいずれかとから成る水溶性高分子皮膜形成剤。【選択図】図1
請求項(抜粋):
カルボキシル基若しくはスルホ基を含有親水基とするアニオン変性ポリビニルアルコールと、ブタンテトラカルボン酸,アミノカルボン酸若しくはアミノカルボン酸誘導体のいずれかとから成ることを特徴とする水溶性高分子皮膜形成剤。
IPC (8件):
C08L 29/04
, H01M 2/30
, C08K 5/09
, C08K 5/17
, C08K 3/16
, C08K 3/08
, C09D 5/00
, C09D 129/04
FI (8件):
C08L29/04 G
, H01M2/30 D
, C08K5/09
, C08K5/17
, C08K3/16
, C08K3/08
, C09D5/00 Z
, C09D129/04
Fターム (43件):
4J002BE021
, 4J002DA078
, 4J002DA088
, 4J002DA108
, 4J002DD037
, 4J002EF016
, 4J002EN116
, 4J002FD206
, 4J002FD207
, 4J002FD208
, 4J002GH01
, 4J002GH02
, 4J002GQ00
, 4J002HA04
, 4J038GA06
, 4J038GA13
, 4J038HA106
, 4J038JA39
, 4J038JB10
, 4J038MA08
, 4J038NA03
, 4J038NA04
, 4J038PB09
, 4J038PC02
, 5H043AA07
, 5H043AA13
, 5H043BA19
, 5H043DA02
, 5H043DA10
, 5H043DA11
, 5H043DA13
, 5H043HA22D
, 5H043HA29D
, 5H043JA13D
, 5H043KA05D
, 5H043KA06D
, 5H043KA07D
, 5H043KA08D
, 5H043KA09D
, 5H043KA25D
, 5H043KA38D
, 5H043LA21D
, 5H043LA42D
引用特許:
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