特許

J-GLOBAL ID：201103026684390930

遊離砥粒研磨スラリー組成物

発明者： 鈴木 康之 ,  賀来 智弘 ,  折井 一也 ,  藤田 恭敏 ,  山口 正雄 ,  佐々木 正博
出願人/特許権者： 株式会社トッパンTDKレーベル ,  TDK株式会社
代理人 (3件)： アクシス国際特許業務法人 ,  倉内 基弘 ,  倉内 基弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-068281
公開番号（公開出願番号）：特開2000-265159
特許番号：特許第4132366号
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 異硬度材料が混在する複合材料を研磨するための遊離砥粒研磨スラリー組成物であって、研磨剤粒子、耐磨耗剤及び非水系溶媒を含み、前記耐磨耗剤がその分子鎖中にイオウ又はリンを含有する、式 で表されるリン酸エステル、式 で表されるリン酸トリクレジル(TCP)、式 で表されるリン酸トリアリル、式 で表されるジチオリン酸亜鉛(Zn-DTP)、式 で表されるリン硫化ポリオレフィン、式 で表されるバリウムチオピロホスフェート、式 で表されるニッケルチオホスフェート、式 で表される硫化脂肪酸エステル、 から選ばれた遊離砥粒研磨スラリー組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 200 6.01) ,  G11B 5/60 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/60 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 分散/凝集状態を制御した遊離砥粒スラリー、その製造法及びその分散方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-094192   出願人：東京磁気印刷株式会社