パターン形成方法およびポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：松元洋 , 光石俊郎 , 田中康幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-129405
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321791
特許番号：特許第3542106号
出願日： 1999年05月11日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】側鎖に芳香族水素を有するポジ型レジスト中に存在する高分子集合体の周囲のレジスト間を下記の構造を有する架橋剤で架橋させた後に感光してパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。;;化1::

IPC (3件)：