特許
J-GLOBAL ID:201103027753638848

光干渉フィルタ作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外7名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-248011
公開番号(公開出願番号):特開2001-074932
特許番号:特許第3231299号
出願日: 1999年09月01日
公開日(公表日): 2001年03月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 透明薄膜の蒸着によって光干渉フィルタを作成する真空蒸着装置において、膜厚制御用のモニタ素子として光干渉フィルタ基板そのものを用い、一つの波長可変型モニタ用光源による、前記光干渉フィルタの中心波長(λ0)に対して、長波長側及び短波長側に同距離(Δλ)離れた異なる波長の2つのレーザー光を用い、該レーザー光の照射による前記モニタ用素子からの反射光または透過光の強度変化をモニタすることによって蒸着膜厚の制御を行い、該蒸着膜厚の制御は、設計波長近傍の前記2波長のレーザー光を用い、該レーザ-光の時間変化を無視できる短時間において、2波長のレーザー光を検出し、その透過光強度または反射光強度の差に基づいて行うことを特徴とする光干渉フィルタ作成方法。
IPC (3件):
G02B 5/28 ,  C23C 14/54 ,  G01B 11/06
FI (3件):
G02B 5/28 ,  C23C 14/54 E ,  G01B 11/06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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