特許

J-GLOBAL ID：201103027956364026

イオン・ビーム・スパッタ付着システム及び磁気抵抗センサ構築方法

発明者： ムスタファ・ピナルバシ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-153255
公開番号（公開出願番号）：特開2000-073165
特許番号：特許第3151445号
出願日： 1999年06月01日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】イオン・ビーム・スパッタ付着システムであって、真空チャンバと、前記真空チャンバ内にある材料のターゲットと、前記真空チャンバ内に配置されたウェーハ上に前記ターゲット材料を付着するために、前記ターゲットにイオンを向けるためのイオン・ビーム源と、前記ウェーハを保持するための基板ステージと、を含み、前記基板ステージはステージ・アームに取り付けられ、前記ステージ・アームは、ステージ・コントローラとの接続点を有し、前記ステージ・アームは、前記基板ステージが前記ターゲット材料の付着前または付着中に、前記接続点に対して、第1の面(x-y)第2の面(x-z)、そして第3の面(y-z)において傾動可能である、システム。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/46 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

FI (4件)：

C23C 14/34 J ,  C23C 14/46 Z ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-033564
  
• 特開平1-205071
  
• 特開昭63-195264
  
• 薄膜製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-310291   出願人：株式会社トキメック