特許
J-GLOBAL ID：201103028161098480
パターン修正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 吉田 博由
, 伊藤 英彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-231247
公開番号（公開出願番号）：特開2002-042660
特許番号：特許第3818837号
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 フラットディスプレイの構造要素である基板上に形成されたリブの欠陥を修正するパターン修正方法において、
前記リブが欠けた欠陥部の両側にレーザ光を照射して所定間隔の2つの切り込みを形成し、
スクラッチ針によって前記2つの切り込みの間のリブ材を除去し、
塗布針の先端に付着した修正ペーストを前記2つの切り込みの間に塗布することを特徴とする、パターン修正方法。
IPC (3件)：
H01J 9/50 ( 200 6.01)
, H01J 11/02 ( 200 6.01)
, B05C 1/02 ( 200 6.01)
H01J 9/50 A
, H01J 11/02 B
, B05C 1/02 101
