コーティング処理方法および絞りプレート

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保田直樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-243770
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060941
特許番号：特許第3664472号
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくともオスミウムを含有するガスと水素ガスを含むガスとの混合ガスを用いてプラズマを発生させ、電子線のビーム径を調節するための微細な孔を有する金属板からなる絞りプレートの表面にオスミウム金属薄膜を堆積させるプラズマ励起化学気相堆積工程を含むことを特徴とするコーティング処理方法。

IPC (4件)：