特許
J-GLOBAL ID：200903083826742788
絞りプレートおよびその処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保田 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-208534
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299076
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【課題】 高い分解能を達成し、維持することが可能な絞りプレートおよびその処理方法を提供すること。【解決手段】 例えば電子顕微鏡の絞りプレートの処理方法において、エッチングにより孔空けした絞りプレートの残留レジストをより完全に除去可能な洗浄工程、および絞りプレートの表面にオスミウムをコーティングするコーティング工程を実施する。本発明によれば、エッチングによる孔空け加工後の絞りプレートの残留レジストが従来の方法と比べてより完全に除去されるので、帯電やコンタミネーション、コーティングの剥離等の問題が減少し、分解能が向上する。更に、コーティングされたオスミウムは非結晶状態の硬質の導電膜となるので、分解能の劣化が防止できる。
請求項（抜粋）：
微小な孔を空けた金属板にオスミウムのコーティングを施すコーティング工程を含むことを特徴とする絞りプレートの処理方法。
IPC (3件)：
H01J 37/09
, C23C 30/00
, H01J 9/14
H01J 37/09 A
, C23C 30/00 B
, H01J 9/14 A
4K044AA06
, 4K044AB02
, 4K044BA08
, 4K044BC05
, 4K044CA02
, 4K044CA04
, 4K044CA41
, 5C033BB01
, 5C033BB08
