特許
J-GLOBAL ID：201103028489365613
錫又は錫系合金めっき浴、該めっき浴の建浴用又は維持・補給用の錫塩及び酸又は錯化剤溶液並びに該めっき浴を用いて製作した電気・電子部品
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
アクシス国際特許業務法人
, 倉内 基弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-286554
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096590
特許番号：特許第4698904号
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 錫めっき浴又は錫と次の(い)群:銅、亜鉛、銀、インジウム、金及びビスマスから選ばれる1種又は2種以上の金属との錫系合金めっき浴であって、少なくとも下記成分(A)〜(D):
(A)5g/L以上200g/L以下の2価の錫イオン、
(B)2価の錫イオンに対して合計して化学量論的に当量以上の、該2価の錫イオンと水溶性の塩又は錯体を形成する酸又は錯化剤の1種又は2種以上、
(C)錫に対して合計して20ppm以上2000ppm以下の、周期律表の第4〜6周期のIB〜VB族元素のうち錫、水銀、タリウム及び前記(い)群に含まれる元素を除く元素から選ばれる金属の1種又は2種以上、
(D)酸化防止剤の1種又は2種以上
を必須の成分として含有し、
さらに、0.1g/L以上20g/L以下の4価の錫イオン又は4価の錫化合物を含有することを特徴とする錫又は錫系合金めっき浴。
IPC (3件)：
C25D 3/32 ( 200 6.01)
, C25D 3/60 ( 200 6.01)
, C25D 21/14 ( 200 6.01)
C25D 3/32
, C25D 3/60
, C25D 21/14 A
