特許
J-GLOBAL ID：201103028950298257
参照画像作成方法、パターン検査装置及び参照画像作成プログラムを記録した記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357273
公開番号（公開出願番号）：特開2001-175857
特許番号：特許第3485052号
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 設計データを画像化して参照データを生成する参照データ生成手順と、前記設計データに基づいて基材上に形成された被検査パターンをレーザービームで走査し、前記基材を通過して得られる透過光を受光素子によって受光する走査手順と、前記走査手順で得られたパターン情報から被検査パターンの画像を生成する光電画像処理手順と、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と前記被検査パターンの画像との畳み込み演算により、パターンエッジ位置に対応する階調値を示すエッジ境界条件を求め、このエッジ境界条件に基づいて被検査パターンのエッジ位置をサブ画素の単位で検出するエッジ位置検出手順と、画素をマトリクス状に分割するサブ画素を各画素毎に設け、各画素内に展開されたパターンに属するサブ画素数に基づいて各画素の階調値を算出し、この階調値を階調ステップ数で割った回数値をその画素内に展開されたパターンの幅とすることにより、前記検出されたエッジ位置に基づく前記被検査パターンのパターン幅の算出とこれに対応する位置の前記参照データのパターン幅の算出とをそれぞれ行うパターン幅算出手順と、このパターン幅算出手順によって算出された被検査パターンと参照データのパターン幅に基づいて、前記被検査パターンの画像と前記参照データの位置が一致するように前記参照データを修正して参照画像を生成する参照画像生成手順と、前記被検査パターンの画像と前記参照画像とを比較して被検査パターンの欠陥を検出する比較手順とを備えることを特徴とする参照画像作成方法。
IPC (3件)：
G06T 1/00 305
, G01B 11/30
, G01N 21/956
G06T 1/00 305 C
, G01B 11/30 A
, G01N 21/956 A
