特許
J-GLOBAL ID:201103029351920680

排ガス処理装置及び処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-293514
公開番号(公開出願番号):特開2001-113125
特許番号:特許第3469142号
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2001年04月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 焼却炉,熱分解炉,溶融炉等から排出される排ガス中の有害物質を吸着除去する排ガス処理装置であって、排ガス中のダスト成分を除去する第1の吸着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在なダスト除去層と、該ダスト除去層を通過した排ガス中の有害物質を吸着する第2の吸着剤を充填した固定式吸着層と、第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で除去し、吸着剤を再利用する篩手段とを具備してなる排ガス吸着装置を少なくとも2台設けてなり、1台の排ガス吸着装置で排ガス中の有害物質の吸着をしている間に、他の排ガス吸着装置の上記有害物質を吸着した第2の吸着剤に高温の不活性ガスを導入し、第2の吸着着剤から有害物質を脱離して吸着剤を再生すると共に、上記脱離した有害物質を含んだ加熱再生排ガスを触媒作用により分解処理することを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5件):
B01D 53/70 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/86
FI (5件):
B01D 53/04 G ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB A ,  B01D 53/36 B ,  B01D 53/36 G
引用特許:
出願人引用 (3件)

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