特許
J-GLOBAL ID：201103029368976085
真空蒸着装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032001
公開番号（公開出願番号）：特開2000-234166
特許番号：特許第3630220号
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空槽内を走行するフィルムの表面に異なる元素からなる混合膜を形成する蒸着装置であって、該真空蒸着装置は以下:異なる元素に電子線を照射してフィルム表面に蒸着させることにより該フィルム表面に混合膜を形成する加熱手段と、該フィルム上の混合膜にX線を照射するX線照射手段と、該X線照射手段により励起された特性X線の強度を測定して厚みに換算する厚み測定手段と、測定された厚みデータを基に電子線の強度および電子線の捜査時間と、走行するフィルムの速度を制御する制御手段と、を備え、該制御手段は、測定した混合膜の厚みと目標値との偏差値を基に、該蒸着材料に照射する電子線の強度と電子線の捜査時間を制御し、電子線のエネルギーが予め設定された許容量を越えた時に限って走行フィルムの速度を制御するように構成されていることを特徴とする、真空蒸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 U
, C23C 14/30 A
