特許
J-GLOBAL ID：201103029766179764

浄化システム

発明者：
佐藤 克己

佐藤 克己 について

, 
阪田 総一郎

阪田 総一郎 について

, 
高橋 秀人

高橋 秀人 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  和田 憲治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-147677
公開番号（公開出願番号）：特開2000-334242
特許番号：特許第4249329号
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】汚染防止対象物が存在する目的空間内に、供給部から不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、 前記供給部から供給される不活性ガスによる気流中に前記汚染防止対象物を位置させるように、前記汚染防止対象物の下流側に設定された第1の排気部と、 前記気流における汚染防止対象物の上流側に設定された第2の排気部と、 親水性ゼオライトを、ガス状有機不純物を吸着する性質を有しかつ該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いて、支持体の表面に固着させた吸着層を有するガス浄化フィルタとを有し、 前記ガス浄化フィルタは、前記気流における供給部の下流側であってかつ汚染防止対象物の上流側に配置され、 前記目的空間は、前記第2の排気部からの排気によって減圧自在に構成され、 さらに前記供給部、第1の排気部、第2の排気部は各々開閉自在であることを特徴とする、浄化システム。
IPC (1件)：
B01D 53/02 ( 200 6.01)
FI (1件)：
B01D 53/02 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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