特許
J-GLOBAL ID:201103029808048908

荷電粒子線装置およびプローブ制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 学
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-148583
公開番号(公開出願番号):特開2001-324459
特許番号:特許第4505946号
出願日: 2000年05月16日
公開日(公表日): 2001年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子線光学系と、 前記荷電粒子線を前記試料に照射して発生する二次粒子を検出する検出器と、 前記試料を載置する試料台と、 前記試料台の位置を制御することにより、前記試料の目標位置を観察像中に移動する試料位置制御装置と、 プローブと、 前記目標位置から設定される移動量に基づいて前記プローブの移動を制御するプローブ制御装置を有する荷電粒子線装置であって、 さらに、前記検出器から得られる観察像から前記試料の表面像を排除して、前記プローブの輪郭に見られる明暗の境界を検出する画像解析装置と、 前記プローブの先端位置に基づいて、前記移動後のプローブが所望の位置にあるか否かを判定する中央処理装置を有し、 前記中央処理装置は、前記プローブの先端位置の検出ができるまで前記プローブへの印加電圧又は前記プローブの移動量を変えて前記観察像を取得して移動後の前記プローブの先端位置を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (5件):
G01N 23/225 ( 200 6.01) ,  H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/30 ( 200 6.01) ,  H01L 21/66 ( 200 6.01) ,  G01N 1/28 ( 200 6.01)
FI (5件):
G01N 23/225 ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/30 Z ,  H01L 21/66 J ,  G01N 1/28 G
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 不良検査方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-141353   出願人:株式会社日立製作所
  • 特許第2708547号
  • 特許第2708547号

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