特許

J-GLOBAL ID：201103030435859364

オゾンガスに含まれる窒素酸化物および水分の除去方法

発明者： 泉 浩一 ,  中村 貞紀 ,  小池 国彦
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 正二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-279865
公開番号（公開出願番号）：特開2011-121805
出願日： 2009年12月09日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：

【課題】吸着剤に含有される金属がオゾンと反応することによるオゾン濃度の減少。【解決手段】原料として酸素ガスに窒素ガスを数%未満添加したガスを使用して生成したオゾンガスを吸着剤としてシリカゲル7を充填した除去筒8に導入して、オゾンを飽和吸着させ、その後二酸化窒素をシリカゲルに吸着除去しながら、シリカゲル表面に吸着されたオゾンを低次の窒素酸化物と反応させることによって、より吸着性の高い二酸化窒素として捕捉する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原料として酸素ガスに窒素ガスを数%未満添加したガスを使用し、放電式オゾン発生装置で生成したオゾンガスを、吸着剤としてシリカゲル(7)を充填した除去筒(8)に導入し、予めシリカゲル(7)の表面に飽和状態までオゾン吸着させた後、シリカゲル(7)で二酸化窒素を吸着除去しつつ、低次の窒素酸化物をシリカゲル(7)表面に吸着されたオゾンと反応させることによって二酸化窒素として捕捉するように構成したことを特徴とするオゾンガスに含まれる窒素酸化物および水分の除去方法。

IPC (5件)：

C01B 13/11 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/28 ,  B01D 53/26

FI (5件)：

C01B13/11 Z ,  B01D53/04 C ,  B01D53/02 Z ,  B01D53/28 ,  B01D53/26 101C

Fターム (19件)：

4D012BA01 ,  4D012CA01 ,  4D012CA20 ,  4D012CB12 ,  4D012CD10 ,  4D012CE03 ,  4D012CF08 ,  4D012CG01 ,  4D012CH10 ,  4D012CJ10 ,  4D052AA02 ,  4D052CC04 ,  4D052DA03 ,  4D052DB01 ,  4D052GA04 ,  4D052GB11 ,  4D052HA01 ,  4G042CA01 ,  4G042CB15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-113295
  
• 放電式オゾンガス生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-281731   出願人：岩谷産業株式会社
• オゾンの取出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-004391   出願人：岩谷産業株式会社
• 特開平2-208204