特許
J-GLOBAL ID:201103031127794924
フォトレジストパターン上にコーティングするための水性組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
江崎 光史
, 鍛冶澤 實
, 上西 克礼
, 虎山 一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-514143
公開番号(公開出願番号):特表2011-524930
出願日: 2009年06月17日
公開日(公表日): 2011年09月08日
要約:
本発明は、フォトレジストパターンをコーティングするための水性コーティング組成物であって、アルキルアミノ基を有する少なくとも一つの単位を含むポリマーを含み、前記単位は以下の構造(1)[式中、R1〜R5は独立して水素及びC1〜C6アルキルから選択され、そしてWはC1〜C6アルキルである]を有する、前記組成物に関する。本発明は、更に、本発明の組成物を用いてフォトレジスト層に画像形成する方法にも関する。
請求項(抜粋):
フォトレジストパターンをコーティングするための水性コーティング組成物であって、アルキルアミノ基を有する少なくとも一つの単位を含むポリマーを含み、前記単位は下記構造(1)を有する、前記組成物。
IPC (8件):
C09D 133/14
, C09D 5/02
, C09D 139/04
, C09D 7/12
, C09D 9/00
, G03F 7/40
, H01L 21/027
, C08F 220/34
FI (8件):
C09D133/14
, C09D5/02
, C09D139/04
, C09D7/12
, C09D9/00
, G03F7/40 511
, H01L21/30 575
, C08F220/34
Fターム (37件):
2H096AA25
, 2H096HA05
, 2H096HA30
, 4J038CG141
, 4J038CH121
, 4J038CH201
, 4J038CK031
, 4J038JA18
, 4J038JB02
, 4J038JB09
, 4J038KA03
, 4J038KA04
, 4J038KA06
, 4J038KA09
, 4J038KA12
, 4J038MA08
, 4J038MA10
, 4J038NA24
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 4J038RA04
, 4J038RA06
, 4J038RA16
, 4J100AL08P
, 4J100AQ06R
, 4J100AQ08Q
, 4J100AQ15Q
, 4J100AQ19Q
, 4J100BA11R
, 4J100BA31P
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA01
, 4J100JA38
, 5F146PA19
引用特許:
審査官引用 (2件)
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被膜形成用樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-309242
出願人:大阪有機化学工業株式会社
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特開平3-157463
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