被膜形成用樹脂組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-309242
公開番号（公開出願番号）：特開2007-121346
出願日： 2005年10月25日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：

【課題】ポリビニルアルコールを使用しなくても、水溶性ポリマーのみでレジストパターンを微細化することができ、さらに水溶性、被膜強度、平滑性などに優れた被膜形成用樹脂組成物を提供すること。【解決手段】式(I): (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、Xは酸素原子、NH基または硫黄原子、R2は水酸基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキレン基、R3およびR4はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を示す)で表されるアミノ基含有モノマー20〜80重量%および式(II):(式中、R1は前記と同じ。R5はカルボン酸エステル基、芳香族基、複素環含有基またはカプロラクタム基を示す)で表されるビニル基含有化合物20〜80重量%を含有するモノマー組成物を重合させてなる被膜形成用樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I):

IPC (9件)：

G03F 7/40 , C08F 220/34 , C08F 220/60 , C08F 220/38 , C08F 220/18 , C08F 212/04 , C08F 226/06 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F7/40 511 , C08F220/34 , C08F220/60 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F212/04 , C08F226/06 , G03F7/033 , H01L21/30 575

Fターム (50件)：

2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025CB53 , 2H025FA29 , 2H025FA33 , 2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096EA05 , 2H096HA01 , 2H096HA05 , 4J100AB00Q , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AG02Q , 4J100AG04Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL05Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL61Q , 4J100AL75Q , 4J100AM15Q , 4J100AM17Q , 4J100AM21P , 4J100AQ08Q , 4J100AQ12Q , 4J100AQ19Q , 4J100AR10Q , 4J100BA03Q , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA28Q , 4J100BA31P , 4J100BB03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC28Q , 4J100BC43Q , 4J100BC53Q , 4J100BC58Q , 4J100BC73Q , 4J100BC79Q , 4J100CA03 , 4J100JA37 , 4J100JA38 , 5F046NA19

引用特許：

出願人引用 (2件)

パタン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-192151 出願人：株式会社日立製作所
パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-241107 出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (5件)

水溶性樹脂及びレジスト物質の混合層を形成して微細電子パターンを形成する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-348515 出願人：三星電子株式会社
特開平3-157463
特開平2-001710

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