特許

J-GLOBAL ID：201103031313481693

薄膜の製造方法、薄膜が形成された回転楕円体、及びこれを用いた電球と薄膜形成装置。

発明者： 小俣 雄二 ,  橋本 尚隆 ,  横山 政秀 ,  末光 敏行 ,  北井 崇博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-102442
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294200
特許番号：特許第3506949号
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板側からみて特定方向にある成膜源から飛来する成膜粒子の中で、回転楕円体形状を含む前記基板上に薄膜を形成し、前記薄膜の形成にスパッタリング法、または蒸着法を用いる薄膜の製造方法であって、前記基板を前記回転楕円体形状の回転軸を中心として一定角速度で回転させるスピン運動を行うと同時に、前記回転軸上の前記回転楕円体形状の2焦点間の中点を中心として、前記基板を同一面内において一定周期で回転振動させるスウィング運動を行いながら前記基板上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

H01K 1/32 ,  C23C 14/50 ,  H01J 9/20 ,  H01K 3/00

FI (4件)：

H01K 1/32 B ,  C23C 14/50 K ,  H01J 9/20 B ,  H01K 3/00 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 管球および管球への被膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-230629   出願人：東芝ライテック株式会社
• 特開平3-232963
  
• 特開平3-232963