特許
J-GLOBAL ID:201103031575380456
磁気記録媒体の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (18件):
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-207045
公開番号(公開出願番号):特開2011-054269
出願日: 2010年09月15日
公開日(公表日): 2011年03月17日
要約:
【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を用いて磁気記録媒体を得る。【解決手段】2-メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3-アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。【選択図】図3
請求項(抜粋):
真空下で、データ領域、サーボ領域を含む磁気記録媒体の磁気記録層表面と、樹脂スタンパの凹凸パターン面とを、2-メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3-アダマンタンジメタノールジアクリレートからなる群から選択される少なくとも1種のアダマンチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有する未硬化のパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料の塗布層を介して接触し、
該未硬化の紫外線硬化性樹脂材料の塗布層に紫外線を照射して、硬化せしめ、
該樹脂スタンパを剥離して、前記磁気記録媒体の片面上に凹凸パターンが転写され、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、
硬化された紫外線硬化性樹脂材料層をマスクとしてドライエッチングを行い、磁気記録層表面に、凹凸パターンを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4件):
G11B 5/84
, G11B 5/855
, H01L 21/027
, B29C 59/02
FI (5件):
G11B5/84 Z
, G11B5/855
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
Fターム (19件):
4F209AA43
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH38
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5D112AA05
, 5D112AA19
, 5D112AA24
, 5D112GA00
, 5D112GA17
, 5D112GA19
, 5D112GA20
, 5F046AA28
引用特許:
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