特許
J-GLOBAL ID：201003013263788630
光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-003744
公開番号（公開出願番号）：特開2010-159369
出願日： 2009年01月09日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：
【課題】 低揮発性、低粘度で、基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、エッチング耐性に優れる光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体を提供する。【解決手段】 (A)光重合性化合物及び(B)光重合開始剤を含有し、25°Cにおける粘度が20mPa・s以下である光硬化性樹脂組成物であって、前記(A)光重合性化合物が、(A1)25°Cにおける粘度が15mPa・s以下であり、沸点が240°C以上である光重合性化合物を(A)成分全体の質量に対して30〜99質量%、及び(A2)環状構造を含む多官能(メタ)アクリレート化合物を(A)成分全体の質量に対して0.1〜50質量%含有する、光硬化性樹脂組成物。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(A)光重合性化合物及び(B)光重合開始剤を含有し、25°Cにおける粘度が20mPa・s以下である光硬化性樹脂組成物であって、
前記(A)光重合性化合物が、(A1)25°Cにおける粘度が15mPa・s以下であり、沸点が240°C以上である光重合性化合物を(A)成分全体の質量に対して30〜99質量%、及び(A2)環状構造を含む多官能(メタ)アクリレート化合物を(A)成分全体の質量に対して1〜70質量%含有する、光硬化性樹脂組成物。
IPC (2件)：
C08F 220/26
, H01L 21/027
C08F220/26
, H01L21/30 502D
4J100AE02R
, 4J100AE05R
, 4J100AE06R
, 4J100AE09R
, 4J100AE63R
, 4J100AE70R
, 4J100AE76R
, 4J100AL05P
, 4J100AL08P
, 4J100AL62P
, 4J100AL66P
, 4J100AL66Q
, 4J100BA02P
, 4J100BA02Q
, 4J100BA02R
, 4J100BA03R
, 4J100BA08P
, 4J100BA08Q
, 4J100BA08R
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC07P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC43P
, 4J100BC43Q
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100DA09
, 4J100DA22
, 4J100JA37
, 4J100JA38
, 5F046AA28
