特許
J-GLOBAL ID:201103031765665023

光ファイバの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外11名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-185795
公開番号(公開出願番号):特開2000-086266
特許番号:特許第3524435号
出願日: 1999年06月30日
公開日(公表日): 2000年03月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】シリカ体からなるプリフォームからファイバを線引きするステップからなり、前記シリカ体は、このシリカ体を焼結する前に、1もしくは複数の種類の非酸素添加硫黄ハロゲン化物からなる気体状混合物で、300〜900°Cの範囲内の温度でこのシリカ体を処理するステップを含む処理方法により生成されており、前記1もしくは複数の種類の非酸素添加硫黄ハロゲン化物は、前記シリカ体内に存在する硫黄と、前記シリカ体上を流れるハロゲン化物との反応によって生成されることを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (3件):
C03B 37/014 ,  C03B 37/016 ,  G02B 6/00 356
FI (3件):
C03B 37/014 Z ,  C03B 37/016 ,  G02B 6/00 356 A
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭55-010412
  • 特開昭56-100145
  • 特開昭61-183142
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